抄録
表皮と真皮の間に存在する基底膜は，表皮と真皮の間で情報を適切にやり取りする機能「表皮真皮コミュニケーション」によって，皮膚全体を健やかな状態に保っている。紫外線を浴びることで基底膜の機能変化がどのように関与しているのかはわかっていなかった。基底膜に存在するヘパラン硫酸は，皮膚に重要な増殖因子と結合することで，表皮-真皮間の移動を制御していることから，われわれは基底膜のヘパラン硫酸に着目し，日常紫外線を浴びている光老化皮膚における基底膜のヘパラン硫酸の変化を検討した。紫外線を浴びた皮膚表皮では，ヘパラン硫酸を分解する酵素「ヘパラナーゼ」の発現増加，活性化に伴い，基底膜のヘパラン硫酸が著しく分解されていることを発見した。さらに，ヘパラナーゼの活性を抑えると，皮膚全体が良好な状態を維持できることを明らかにした。このことは，『紫外線によって酵素ヘパラナーゼが活性化すると，皮膚全体へダメージを与え，シワなどの光老化を促進する』ということを示唆している。この研究結果に基づき，酵素ヘパラナーゼの活性を制御する成分の探索を進め，「ムクロジエキス」を開発した。
