塩化リチウム/ジメチルスルホキシド溶媒系を用いたセリシンの化学修飾

日本シルク学会誌

Online ISSN : 1881-1698
Print ISSN : 1880-8204
ISSN-L : 1880-8204

第51回日本シルク学会研究発表要旨

塩化リチウム/ジメチルスルホキシド溶媒系を用いたセリシンの化学修飾

寺本英敏, 中島健一, 髙林千幸

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ジャーナルフリー

2003 年 12 巻 p. 102-103

DOI https://doi.org/10.11417/silk.12.102

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© 2003 日本シルク学会

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