抄録
高分子材料の微小領域の化学状態やその変化を精密に解析するために、XPEEM(X-ray Photoemission Electron Microscopy)を用いた顕微XAFS(X-ray Absorption Fine Structure)測定に着目し、SPring-8 BL17SUにて検討を行っている。これまでの実験から、炭素K殻吸収端領域の測定において、光学系における炭素汚染の影響により入射X線強度を正確に測定できていないためXAFSスペクトルが歪むなどの問題が明らかとなっている。今回、入射X線強度の計測方法の検討を目的とし実験した結果、炭素K殻吸収端におけるスペクトルの歪みを低減することができた。