極小角・小角X線散乱法を用いた熱可塑性エラストマーのミクロ相分離構造の解析

抄録

高応力・高復元性に優れるエラスティックフィルム用SIS（スチレン－イソプレンブロックコポリマー）の開発に向けた基礎情報を得るため、極小角・小角X線散乱法（USAXS・SAXS）を用いた構造解析を行った。このSISのミクロ相分離構造は、サイズの異なる大小の球状スチレンドメインがランダムに分布する構造であることがわかった。さらに、プロセッシング条件により変化する球状ドメインの分布とサイズが、このSISの機械物性に影響を及ぼすことがわかった。