抄録
ナノビームX線を用いたX線回折測定により、CoPt 合金膜で作製した磁気ドットの構造解析を行った。ドットの直径は 50 nm〜300 nm、膜厚は 15 nm であり、次世代磁気記録媒体であるビットパターン素子の特性評価を目的とした。256個のドットを格子状に配列した試料に対して測定を行い、単一ドットの XRD プロファイルの特徴を統計的に解析した。その結果、格子定数および c 軸配向性のドット直径に対する依存性を明らかにした。XMCD イメージングの結果と比較することで、磁気ドットの結晶配向性はビットパターン媒体の性能指標である反転磁界分散の主要な原因ではないことが示唆された。
