抄録
Ｘ線コンピュータトモグラフィー法 (CT) と超小角X線散乱法 (USAXS) によって、ゴム組成物中のシリカの階層構造を評価した。CT 測定ではマイクロメートル領域のシリカ凝集体を3次元で可視化し、定量解析を行った。結果より、マイクロメートル領域に存在するシリカ凝集体は、配合した全シリカの数％程度であることが確認された。USAXS 測定では未変性および変性ポリマーを用いてシリカの散乱曲線を得た。散乱曲線のフィッティング結果から、ポリマーの末端変性によりシリカの凝集体サイズが減少したことが確認された。凝集体サイズの減少率の比較より、マイクロメートル領域よりもナノメートル領域の方が末端変性効果は大きいことが示唆された。
