ガラス状炭素モールド室温硬化インプリントによるポリシロキサンのナノマスクパターン形成

抄録

室温で高粘性であり空気中の水分と反応し、徐々に硬化する特性を有するポリシロキサンを転写材料として提案し、マイクロラインパターンを有するガラス状炭素モールドを用いて室温硬化インプリントした。その過程で、湿度が転写パターンに与える影響について検討した。その結果、高湿度(80％)～低湿度(50％)において転写パターンに影響はなく、高精度にインプリントできることが分かった。