極薄エピアルミナ膜/CuAl合金単結晶の大気保持中の安定性

抄録

超高真空中で選択酸化して成長させたCu9Al(111)単結晶上の極薄エピタキシャルアルミナ膜を、in－situでLEED、RHEED、XPS・UPS測定後、大気中に約6ヶ月放置し、斜入射X線回折、走査型電子顕微鏡像により、厚さ1.6nmのエピタキシャルアルミナ膜の結晶構造および表面形態（凹凸）について評価した。その結果、非常に薄い膜にも関わらず、結晶性もステップテラス構造も保たれていることが判明した。この試料のex-situ電気特性AFM測定についても紹介する。