特集「真空機器の表面改質および被覆技術」
プラズマCVD法で可能になる，微細構造への金属オスミウムコーティング
2020 年 63 巻 2 号 p. 69-73
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2020 年 63 巻 2 号 p. 69-73
Osmium coating on microstructures becomes possible by the plasma CVD technique. A metallic osmium film has excellent heat-resistance, conductivity, hardness and environmental performance. An osmium film coated on an electron-microscope aperture-plate is very effective in electrified restraint and beam damage reduction.
