X線集光技術は，放射光光源技術や微細加工技術の発展に伴い，近年，特に硬X線領域で急速に向上している．これまでX線の集光素子として一般的に用いられてきた，フレネルゾーンプレートやKirkpatrick-Baez (KB)ミラーは，その原理的な集光限界近くに達しており，現在ではナノメーターサイズの集光サイズを目標とした，多層膜ラウエレンズや傾斜多層膜KBミラー等のナノ集光素子が出現している．その集光サイズは10 nm前後に達しており，従来“マイクロビーム技術”と呼ばれていた技術は，最近では“ナノ集光技術”へと変化している．本稿では，初歩的なX線集光光学と一般的なX線集光素子についての解説を行い，最近のナノ集光素子の紹介およびX線集光の現状と展望について述べる．
