美術品や絵画の測定では，試料を傷つけないよう，非破壊･非接触での方法が求められる．蛍光X線分析はこの目的に対して適した技術の1つである．元素画像を得るために，微小X線ビームを用いた分析法が開発されてきた．安全に絵画の測定を行うために，試料と装置間での作動距離（Working Distance：WD）を従来の装置よりも長くできる集光素子を開発した．本発表ではモノキャピラリー内壁に金のコーティングを施し，全体を回転楕円体に設計することにより，従来よりも集光効率が高くWDを大きくできる集光素子（長作動距離モノキャピラリー集光素子）を用いた絵画用X線分析顕微鏡を開発し，これを用いてフィンセント・ファン・ゴッホの絵画作品（ポーラ美術館収蔵）の絵具層分析に応用した結果を報告する．
