2013 年 49 巻 2 号 p. 40-49
高分子材料の表面構造の制御と,高分子/高分子界面における緩和および拡散を経て界面層が形成されていく過程を解明することは重要である。表面構造を制御する方法の一つとして,側鎖の化学構造に着目し,ブロック共重合体が形成するミクロ相分離構造を自発的に表面に析出させる分子設計について提案した。時分割中性子反射率測定と拡散方程式を組み合わせた解析により,分スケールの時間分解能,および,ナノメートルスケールの空間分解能で高分子/高分子界面の形成過程を明らかにする方法を開発した。環状ポリスチ レンと線状ポリスチレンの相互拡散挙動を比較し,分子の構造が界面の形成過程に大きな影響を及ぼすことを示した。