ウラニルイオン選択的沈殿法による簡易再処理システムの開発 (IV) NCP沈殿形成時における温度の影響

古志野 伸能; 原田 雅幸; 池田 泰久; 野上 雅伸; 鈴木 和則; 峯尾 英章; 森田 泰治; 山崎 和彦; 近沢 孝弘; 菊池 俊明

doi:10.11561/aesj.2003f.0.440.0

2003年秋の大会

セッションID: I41

DOI https://doi.org/10.11561/aesj.2003f.0.440.0

会議情報

簡易再処理

ウラニルイオン選択的沈殿法による簡易再処理システムの開発 (IV)

NCP沈殿形成時における温度の影響

*古志野伸能, 原田雅幸, 池田泰久, 野上雅伸, 鈴木和則, 峯尾英章, 森田泰治, 山崎和彦, 近沢孝弘, 菊池俊明

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キーワード: N-シクロヘキシル-2-ピロリドン, ウラニルイオン, 硝酸水溶液, 沈殿法, FBR再処理

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抄録

N-シクロヘキシル-2-ピロリドンを利用したウラニルイオンの選択的沈殿法による再処理プロセスの構築を目指し、ウラニルイオンの最適な沈殿条件に関する知見を得るために、沈殿形成時における反応温度の影響について実験を行った。沈殿は、25 ℃よりも50 ℃においてより速く形成され、さらに、沈殿の性状として25 ℃よりも50 ℃において大きな沈殿が得られることから、反応温度を高くしたほうが沈殿速度および性状が向上し、再処理プロセスの固液分離操作上有利であることがわかった。。

責任著者(Corresponding author)

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