光塩基発生剤、マイケル付加型架橋剤を用いたアルカリ現像可能なネガ型感光性ポリベンゾオキサゾールの開発

抄録

近年、半導体デバイスの保護膜や層間絶縁膜として感光性ポリベンゾオキサゾール（感光性PBO） が用いられている。半導体デバイス内部の銅配線幅は年々細くなり、今後、感光性ポリマーの成分である光酸発生剤からの酸によるデバイス内部の銅配線の腐食問題が挙げられる。そこで、本研究では、光塩基発生剤を用いて、その塩基触媒によるマイケル付加反応を用いた新規感光機構を提案し、銅配線腐食の問題の無いアルカリ現像可能なネガ型感光性PBOを開発したので報告する。