光配向法による垂直配向膜上のプレティルト角の発生

抄録

垂直配向において光配向法は、ラビング配向法に比べ、非接触、無発塵等の特徴を有し、注目されている。我々は、効率的にプレティルト角を発生させるために、垂直配向膜の膜厚、焼成温度、及び基板の反射率によるプレティルト角への影響を詳細に調べた。その結果、配向膜の焼成温度によってプレティルト角の発生する要因が異なると推測された。また、膜厚を薄くすることで効率的にプレティルト角が得られることがわかった。