抄録
現在, チタンインプラントの組織適合性向上のための表面改質法としてスパッタリング法やイオンプレーティング法などの物理気相蒸着(PVD)法が検討されている. 一方, ドライプロセスでの表面改質法としては, PVD法の他にプラズマ化学気相蒸着(CVD)法がある. プラズマCVD法はPVD法に比べて, 一般に膜形成速度が早い, 原料に有機物を用いるので様々な特性を有した表面改質が可能であるなどの利点を有している. 今までにプラズマCVD法を用いたチタンの表面改質についてはほとんど検討がなされていない. 本研究では, 代表的なプラズマCVD法であるプラズマ重合法を用いてチタン基板上に有機薄膜をコーティングし, 薄膜の組成および構造について解析を行った.
以上, HMDSOをモノマーとしたプラズマ重合法により, Ti表面はSi, C, O原子からなりシロキサン結合を含む有機薄膜でコーティングされる事が判明した.
