側壁構造を有する自己整合有機EL素子の作製プロセス

寺下 俊章; 中 茂樹; 岡田 裕之; 女川 博義

doi:10.11485/itetr.22.4.0_49

抄録

側壁構造を有する自己整合有機EL素子の作製プロセスを検討した.本プロセスの要点は, 反応性イオンエッチングによる側壁形成にある.陰極を自己整合マスクとし, 素子周辺に絶縁物側壁を形成した.側壁形成後の素子では電圧3.5Vより発光が見られ, 電流密度100mA/cm^2で1000cd/m^2の輝度を得た, その後, ウェットプロセスおよびフォトリソグラフィ技術が適用できた.配線プロセス後の素子で, 同様に発光が確認できた.

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