PLD法によるAl2O3（001）基板上へのFe3O4薄膜作製

中村 和樹; 木稲 貴治; 斉藤 勝彦; 有田 誠; 生駒 嘉史; 田中 徹; 西尾 光弘; 郭 其新

doi:10.11527/jceeek.2011.0_113

平成23年度電気関係学会九州支部連合大会（第64回連合大会）講演論文集

セッションID: 13-1A-05

DOI https://doi.org/10.11527/jceeek.2011.0_113

会議情報

主催: 電気関係学会九州支部連合大会委員会

PLD法によるAl₂O₃（001）基板上へのFe₃O₄薄膜作製

中村和樹, 木稲貴治, 斉藤勝彦, 有田誠, 生駒嘉史, 田中徹, 西尾光弘, 郭其新

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キーワード: 半導体・電子デバイス

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抄録

磁性材料であるマグネタイト(Fe₃O₄)は記録媒体などの材料分野をはじめスピンエレクトロニクス分野などで注目されており，今後酸化物磁性体を用いた新しい材料の発展が期待される．本研究では成長条件を容易に変える事ができ，同じ組成比で薄膜を作製できるPLD法に注目した．ターゲットをFe₃O₄とし，異なる成長条件下でPLD法によりα-Al₂O₃(001)基板上にFe₃O₄薄膜を作製し，条件変化による結晶性，磁気特性の変化を調べることを目的とした．

責任著者(Corresponding author)

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