抄録
ZnOはナノ構造体の作製が可能で,安価で無害という特長を持つということから,我々はZnOナノ構造体をフィールドエミッタへ応用する研究を行っている.フィールドエミッタへ応用する上でZnOナノ構造体の成長制御が重要となるが,本研究ではZnOバッファ層と干渉レーザー照射を利用した制御手法を考案した.基板上にZnOバッファ層を堆積し,その膜に干渉レーザーを照射しパターニング加工を行う.その後,その膜上に対して独自に開発したナノ微粒子堆積法を用いてZnOナノ構造体を成長させることで,ナノ構造体の成長制御に成功した.干渉レーザー照射による加工痕の形状と成長制御の関係性に主題を置いて報告する.
