ICP支援マグネトロンスパッタ過程における基板入射熱流束の空間分布測定

抄録

プラズマを用いた薄膜形成プロセスにおいては、薄膜堆積基板上に電子や光子の他に、
様々な中性粒子種と荷電粒子種が種々の内部エネルギーと運動エネルギーをもって入射する。
基板入射エネルギー束におけるこれらの各成分の割合と絶対値の把握は、バルクプラズマと膜質・成膜速度の理解と制御に不可欠である。当研究室では、種々のサーマルプローブを用いてこれまで、基板入射熱流束を測定してきた。今回、空間分布計測可能な可動式サーマルプローブを新たに作成し、内部アンテナ式ICPにおける基板入射エネルギー束の空間分布を計測した。
講演では、得られた基板入射エネルギー束をプラズマパラメータや膜特性と比較検討する。