抄録
我々は高速成膜が可能であるPLD(Pulsed Laser Deposition)法を用い，10 μm/h以上の成膜速度下で(1)優れた耐食性と(2)比較的大きなレマネンスエンハンスメントを持つ等方性Fe-Pt系磁石膜を作製してきた。本研究では，「Fe50Pt50付近のハード磁性膜」とFe50Pt50組成の試料よりも高い飽和磁化値(Fe50Pt50の飽和磁化：約1.4T)を持つ，「α-Feソフト磁性膜」や「FeリッチなFexPt100-x(x>60)磁性膜」を交互に積層させる事により，既報のFe-Pt系単層磁石膜よりも優れた磁気特性を得る事を目的とする。
