真空アーク蒸着法によりSi基板上に成膜したNd-Fe-B系磁石膜の諸特性

抄録

本研究室では，Nd-Fe-B系磁石膜を「MEMS(Micro-electro-mechanical-systems)」分野に利用する目的として， Si基板上への成膜に取り組んできた。本研究では密着性に優れた皮膜形成が可能であるため，「切削工具」・「金型」に対し，硬質耐摩耗皮膜コーティングの量産手段として知られている「真空アーク蒸着法」に着目し，Si基板上へのNd-Fe-B系磁石膜の成膜，更には磁気特性ならびに機械的特性といった基礎特性を評価した。