Fe-Ni合金は優れた軟磁気材料として知られており，センサなどの磁気デバイスに応用されている。本研究室では電解めっき法によりFe-Ni厚膜の成膜を行い，その磁気特性に関する多くの報告を行ってきた。電解めっき法は，電流密度によって成膜速度を制御可能であり，軟磁性膜作製の手法として有望な方法であるが，①導電性ある基板にしか成膜できない，②単純な成膜では均一な膜厚を実現しにくい，などが問題になることがある。本研究では，①や②を克服する方法として無電解めっき法に着目した。本稿では，無電解めっきによる軟磁性膜作製に関して検討を行った結果を報告する。
