無電解めっき法を用いて作製したFe-Ni膜の保磁力

抄録

電気電子機器の小型・高性能化のために駆動周波数が徐々に増加しており，磁性体を用いた磁性デバイスにも駆動周波数の増加に対する要望が高まっている。高周波下で磁性体を駆動する場合，うず電流損失に対する対策が必要となり，その一つに厚みの低減がある。本研究室ではこれまでに，市販のアモルファス薄帯やナノ結晶薄帯よりも薄い厚み（数ミクロン）を有する軟磁性体を電解めっき法で作製することを検討してきた。また最近では，無電解めっきを用いたFe-Ni膜作製手法を提案し，高速成膜が可能であることを報告した。本稿では，無電解めっき法を用いたFe-Ni膜の保磁力に着目し，様々な検討を行ったので，その結果を報告する。