30 mass％硫酸溶液中におけるニオブの電解研磨挙動について，三電極式セルを用いてNbの電位を制御し，パルス時間の影響を調査した．電位パターンはカソードパルス（－3 V，tc），アノードパルス（＋1 V，ta）及び休止時間（0 V，1 ms）から構成された．tcとtaの様々な組み合わせで試験した結果，研磨が進行するためにはtcとtaの両方が0.5 msより長い必要があることがわかった．研磨は各パルス時間が等しいときに効率的に進行し，tc＝ta＝2 msの条件で研磨速度が最大となった．表面観察の結果，研磨の初期段階で微小なピットが生成し，これらが成長・合体してマクロな凹面を形成することが示された．しかし，tcよりtaが短いと表面が鋭角的に荒れたことから，水素によるNb基板の機械的損傷が示唆された．このように，この研磨においては，tcとtaとのバランスが重要である．
