高強度短パルスレーザーによるイオンビームの制御

抄録

本研究では、高強度短パルスレーザーにより生成されたイオンビームの発散を抑制することを目的としている。我々は加速器の小型化に向けてレーザーと薄膜ターゲットの相互作用を用いた高品質なイオンビームの生成の研究を行ってきた。レーザーと薄膜ターゲットの相互作用によってイオンビームの上下方向、または横方向に電場を発生させ, イオンビームの発散を抑制出来ることが分かった。本講演ではこの研究に関する最新の成果について発表する。