Journal of Surface Analysis
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解説
クラスターイオンの新しい展開
~ナノプロセスから先端分析応用~
松尾 二郎二宮 啓青木 学聡瀬木 利夫
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2008 年 14 巻 3 号 p. 196-203

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抄録

 原子・分子が同時に同じ場所に多数衝突するクラスターイオンでは,非線形照射効果と呼ばれる新しい現象が起こる.これを利用し様々な分野で画期的な成果が報告されており,従来のイオンビーム技術の限界を打破する新しい原理に基づく新技術として期待されている.ここでは,クラスターイオン特有の非線形現象について述べるとともに,そのナノプロセスへの応用やクラスターイオンを1次イオンとして用いるクラスターSIMSなどの分析技術についても概観する.

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© 2008 一般社団法人 表面分析研究会
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