In situ XRR及びHAXPESによる4H-SiCの熱酸化過程の観察

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第77回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 14p-P9-12

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2016.2.0_3248

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 77

開催地: 朱鷺メッセ

開催日: 2016/09/13 - 2016/09/16

In situ XRR及びHAXPESによる4H-SiCの熱酸化過程の観察

*安野聡, 小金澤智之, 村岡幸輔, 黒木伸一郎

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キーワード: 14p-P9-12, 結晶工学, IV族系化合物（SiC）, 絶縁膜／MOS構造, SiC, in situ XRR, 硬X線光電子分光法

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