オントロジー技術を用いたNII RDCアプリケーションプロファイル開発に向けて
2023 年 33 巻 2 号 p. 212-220
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2023 年 33 巻 2 号 p. 212-220
近年，研究データの再現性と再利用性を支えるプラットフォーム開発が国際的に進んでいる．多くのプラットフォームでは，複数の情報システムを統合してライフサイクル全体をカバーするサービスアーキテクチャを採用している．このようなアーキテクチャの実現に当たっては，異なる情報システム上で実行された処理と結果を引き継ぐための仕様が重要な役割を果たす．本研究では，我々が開発する研究データ基盤であるNII Research Data Cloud (NII RDC)における，アプリケーションプロファイル開発に向けた実践を紹介する．各基盤で扱われるデータの相互運用性を高めるために，我々はNII RDCのユーザーストーリーから抽出した実体と主要な関係性をもとに，オントロジー理論と技術を用いてアプリケーションプロファイルを開発した．本アプリケーションプロファイルを用いることで，複数の基盤間だけではなく，異なる分野のユーザー間でも実行された処理と結果の理解促進が期待できる．
