精密工学会誌論文集
Online ISSN : 1881-8722
Print ISSN : 1348-8724
ISSN-L : 1348-8716
論文
エピタキシャル成長における3次元島形成を利用したナノテクスチャ創成に関する研究
金子 新, 藤山 孝太郎, 角田 陽, 諸貫 信行, 古川 勇二
著者情報
ジャーナル フリー

2005 年 71 巻 6 号 p. 744-749

詳細
PDFをダウンロード (2134K)
メタデータをダウンロード RIS形式

(EndNote、Reference Manager、ProCite、RefWorksとの互換性あり)

BIB TEX形式

(BibDesk、LaTeXとの互換性あり)

テキスト
メタデータのダウンロード方法
発行機関連絡先
抄録
予備加工によりメサ構造を作製したSi(001) 基板上にSiをエピタキシャル成長させ, メサに沿って3次元島を形成させることで, ナノテクスチャの創成を試みている. メサの幅, 高さ, および成長条件を適切に制御することで, メサの中央および両端に1～3列の高さ数10nm, 間隔0.4～1mmの3次元島を整列させることができた.
著者関連情報
© 2005 公益社団法人 精密工学会
前の記事 次の記事
お気に入り & アラート

閲覧履歴
後続誌

精密工学会誌

このページを共有する
feedback
 Top