主催: 日本デザイン学会
会議名: 日本デザイン学会第71回研究発表大会
回次: 71
開催地: 九州産業大学
開催日: 2024/06/21 - 2024/06/23
第二次世界大戦前に開発された写真植字は戦後普及し、20 世紀の米国のグラフィック デザインとタイポグラフィーの様相を完全に変えました。 本研究は、まず写真技術導入の技術的背景をたどり、次に現代の象徴であるサンセリフ体に焦点を当て、新しい書体デザインの展開を明らかにする。 活字から写植への技術移行により、植字や印刷の効率が上がり、より自由な文字表現が可能になった。 また、レタリングアーティストの参加により、幾何学的なサンセリフ体に新たな方向性が見出され、セリフを加えるという豊かな発想は1970年代米国独自の展開であった。