主催: 日本表面真空学会
千葉大学大学院融合理工学府
千葉大学大学院融合理工学府 千葉大学先進科学センター
千葉大学大学院融合理工学府 千葉大学先進科学センター 千葉大学分子キラリティ研究センター
千葉大学大学院融合理工学府 千葉大学分子キラリティ研究センター
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本研究では、ゲート誘電体層としてシリコン酸化膜およびHMDS単分子膜、半導体層としてDPh-BTBTを用いたOFETを駆動させ、チャネル形成過程を電界誘起SFG分光法によりプローブした。その結果、HMDSのメチル基由来の振動ピークとDPh-BTBTのフェニル基由来の振動ピークを確認しながら、電荷蓄積による内部電界の変化をプローブすることに成功した。それぞれの分子種と電荷蓄積の相関について議論する。
表面科学講演大会講演要旨集
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