材料工学，界面現象
溶剤による化学増幅ネガ型ノボラックレジストの除去
2010 年 36 巻 6 号 p. 589-593
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2010 年 36 巻 6 号 p. 589-593
炭酸エチレン（Ethylene Carbonate: EC），炭酸プロピレン（Propylene Carbonate: PC）による化学増幅ネガ型ノボラックレジストの除去性を検討した．ネガ型レジストを用いることにより，ポジ型レジストでは困難なレジスト除去時間（レジスト除去速度）を定量的に求めることが可能であることを明らかにした．露光量の増加につれレジストが架橋するため，EC，PCとも除去速度は遅くなった．溶剤温度が同じとき，ECの除去速度はPCのそれに比較し速かった．ECの分子サイズがPCのそれに比較し小さいので，レジストに侵入しやすく溶解させやすいためと考えられる．アレニウス則をEC，PCによるレジスト除去反応に適用することにより，露光量が高いほど，また溶剤の分子サイズが大きいほど，活性化エネルギーが高いことが判明した．
