ジホスフェンと8族遷移金属の特性を活かした新規な酸化還元系の構築

抄録

既に我々は非常に優れた立体保護基であるTbtおよびBbt基を用いて速度論的に安定化されたフェロセニルジホスフェン類の合成・単離に成功し、その特異な酸化還元挙動を報告している。今回、新規な酸化還元系の構築およびその系統的な物性解明を目的として、ビフェロセニルジホスフェン類1および2、ルテノセニルジホスフェン3の合成について検討を行った。Et₂O中室温でジクロロホスフィン4～6に対し、等量のTbtPHLi（7）またはBbtPHLi（8）を加え、次いで等量のDBUを加えたところ、それぞれジホスフェン1～3が得られた。ジホスフェン1～3の反応性および性質について報告する。