紫外光照射によるめっき可能なハイブリッド薄膜の作製：光リソグラフィーと無電解銅めっきによる金属パターン形成

抄録

フレキシブルフィルム上に金属のパターンを簡便かつ低コストで形成させる方法として，光リソグラフィーと無電解銅めっきによるポリマーフィルム上での銅薄膜のマイクロパターン形成について述べた。アクリルモノマー，パラジウム塩，光ラジカル発生剤，シリカナノ粒子等からなるレジスト薄膜への紫外光照射により，アクリル成分の重合（光硬化）とパラジウムナノ粒子の生成が同時に進行し，パラジウムナノ粒子／ポリマーハイブリッド薄膜のネガパターンが得られる。ハイブリッド薄膜のパラジウムナノ粒子を反応開始触媒とする無電解銅めっきを行うことで，“ハイブリッドのパターン”は“銅薄膜のパターン”に変換される。熱ラジカル発生剤を用いた系でも同様の結果が得られる。本手法では，シリカ粒子のナノスケールアンカー効果により，フレキシブルフィルムに高い密着性を持つ銅薄膜のパターンを簡便なプロセスで得ることができる。