2005 年 74 巻 2 号 p. 180-185
フォトニック結晶の再現性,生産性に優れた作製法である自己クローニング法について,プロセスの概要・特徴,多方面の産業応用について見取り図を提供する.基板の上に凹凸パターンを作り,その上にA,B二種類の材料をスパッタデポジション・バイアスエッチングを組み合わせて交互製膜するというシンプルなプロセスによって,希望する種類の人工誘電体を設計どおりの位置に作製・異種集積することが可能であることを例証する.そのような部品の産業展開の動向を,ノンテレコム,テレコム両方にわたってレビューする.