東京工業大学フロンティア創造共同研究センター 東京工業大学応用セラミックス研究所 科学技術振興機構 ERATO/SORST
東京工業大学応用セラミックス研究所 科学技術振興機構 ERATO/SORST
科学技術振興機構 ERATO/SORST
2005 年 74 巻 7 号 p. 910-916
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イオン性の高い結合で構成される透明アモルファス酸化物半導体In-Ga-Zn-Oを能動層に用いた薄膜トランジスタを室温でPETフィルム上に成膜することで作製すると,約10cm2/Vsという電界効果移動度が得られる.本稿では,イオン性アモルファス酸化物半導体の他のアモルファス半導体にはみられないユニークな特徴とその物質設計を概説するとともに,それを用いたフレキシブルトランジスタの作製と特性について解説する.
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