解説
大気圧低温グロープラズマの生成と制御
2006 年 75 巻 4 号 p. 419-425
詳細
2006 年 75 巻 4 号 p. 419-425
一般に，プラズマCVDやエッチングは低圧グロー放電で行われているが，大型汎用品の真空下での処理はコストの点で困難が多い．この点を解決する方法として小駒，岡崎らにより，大気圧グロープラズマ法が提案され，現在大型フィルム処理機や，プリント基板の洗浄などに使用されている．大気圧グロープラズマはDBD放電の一種で，Heを主体とするガス中にモノマー気体を少量混入することにより，自動的に高速パルス放電状態になるため，大気圧条件下でもアーク放電に移行することなく低温下で均質な処理が可能となった．この解説では，主に大気圧グロープラズマ法の基礎理論とその応用技術，および本技術の将来への展望などについて紹介した．
