研究紹介
シリカガラス表面の構造変化と水の拡散
2007 年 76 巻 7 号 p. 780-784
詳細
2007 年 76 巻 7 号 p. 780-784
シリカガラスは，電子材料としても光学材料としても重要な物質である．ガラスの性質は一般に，冷却速度によって変化する．組成が同じで構造および性質の異なるガラス試料を区別するため，融液がガラスに変化したと考えられる温度として，ガラスの仮想温度という概念が使われる．シリカガラスの仮想温度は赤外分光計を使って簡単に測定でき，その一定温度での経時変化からガラスの構造緩和速度を決めることができる．これらの測定から，シリカガラス表面層の構造緩和速度は，ガラス内部の構造緩和速度に比べて速いことがわかった．この現象のため，シリカガラスの表面や薄膜，ファイバーや微粒子などは，同じ熱処理後でもバルクのシリカガラスとは異なった性質をもつ場合がある．
