最近の展望
ロールツーロールプロセスを用いたナノインプリント技術
2011 年 80 巻 6 号 p. 494-498
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2011 年 80 巻 6 号 p. 494-498
ナノインプリント技術は，電子デバイスの微細構造形成において，従来の半導体製造技術の代替として注目されており，省エネおよび低コスト化が可能であることを特徴とし，光学素子，バイオ・メディカルなどの分野でも研究が進められている．また，これらの電子デバイスを金属薄膜や樹脂フィルム上に製作できれば，量産性に優れるロールツーロールプロセスが適用でき，薄型・軽量化が可能となる．本稿では，ナノインプリント装置，金型加工法，デバイスへの応用事例などを交えて，ロールツーロールプロセスを用いたナノインプリント技術の最近の展望について記述する．
