応用物理
Online ISSN : 2188-2290
Print ISSN : 0369-8009
研究紹介
アモルファス酸化物半導体薄膜の分析・評価技術
林 和志日野 綾岸 智弥釘宮 敏洋
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2013 年 82 巻 10 号 p. 871-875

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抄録

アモルファス酸化物半導体は,TFT製造に関わるプロセス条件に非常に敏感である.このため,酸化物半導体TFTのプロセスを構築するためには,各TFT製造プロセスが酸化物半導体の電子状態に与える影響を明らかにすることが重要となる.本稿では,筆者らがTFT作製プロセス中の酸化物半導体の電子状態を詳細評価するために近年取り組んでいる,酸化物半導体TFTと同一構造,同一プロセスで作製したデバイスを用いた電子状態の評価状況を紹介する.

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© 2013 公益社団法人応用物理学会
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