研究紹介
エンジニアの知識と機械学習の融合
シリコンエピタキシャル成長プロセスへのベイズ最適化応用
2020 年 89 巻 12 号 p. 711-714
詳細
2020 年 89 巻 12 号 p. 711-714
逐次最適化のための機械学習法であるベイズ最適化は，探索と活用をバランスよく行う最適化手法として，広く応用されている．本稿では，はじめにベイズ最適化の概要を解説したあと，実際の実験へのベイズ最適化の応用として，シリコンエピタキシャル膜の成長条件の最適化への適用を紹介する．特に，エンジニアがもつ専門知識や経験の活用を中心に説明する．
