応用物理
Online ISSN : 2188-2290
Print ISSN : 0369-8009
半導体微細加工技術の光学素子作成への適用
探紫外露光法による回折格子素子の試作
神谷 武志小舘 香椎子
著者情報
ジャーナル フリー

1984 年 53 巻 8 号 p. 714-718

詳細
抄録
半導体集積回路技術の一環として発達してきた微細加工技術を利用してコンパクトで高機能かつ低廉な光挙素第を作成しようとする試みが活発化している.電子ビーム描画および深紫外光転写を用いたサブミクロン回折格子デバイスの試作例に即してリソグラフィー技術に立脚した光学素子作成の特徴と課題について述べる.
著者関連情報
© 社団法人 応用物理学会
前の記事 次の記事
feedback
Top