エネルギー分散型斜入射X線分光計の開発と薄膜評価への応用

抄録

薄膜の新しい評価法として,全反射X線蛍光分析,全反射X線回折,X線反射率の測定機能を有するエネルギー分散型斜入射X線分光計が開発された.はじめに,薄膜でのX線の全反射現象を述べ,カラーラウ工法がエネルギー分散(白色)方式の原点であることを説明した.装置構成を説明し,応用例としてエピタキシャル成長薄膜の三次元逆格子マッピング,その場(in-situ)観測による蛍光・回折の同時測定,さらに有機電界発光(EL)薄膜における反射率測定例を示した.まとめで本評価法の特徴を生かす使用法を考察した.