日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
第15回秋季シンポジウム
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大気放型CVD法により作製したZrO2、HfO2、Al2O3及びY2O3薄膜の機械特性
エパサカ ジュドネ·ベルナール大塩 茂夫齋藤 秀俊
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p. 399

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抄録
大気開放型CVD法により作製したZrO2, HfO2, Al2O3及びY2O3薄膜の機械特性を解析した。X線回折により、ZrO2、HfO2、Al2O3及びY2O3はそれぞれ正方晶、単斜晶、アモルファスならびに立方晶構造をもつことがわかった。ナノインデンテーションテストはZrO2が弾性率と硬さにおいて最高値を示している。本研究におけるHfO2薄膜の弾性率と硬さは、M. Barsoum “Ceramics fundamentals”の実験結果と一致する。
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©  日本セラミックス協会 2002
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