日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
第15回秋季シンポジウム
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MOCVD法により合成したイットリア安定化ジルコニア膜の耐熱衝撃性
塗 溶木村 禎一後藤 孝
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p. 432

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抄録
イットリア安定化ジルコニア(YSZ)は高温で高い化学的·熱的安定性, 低い熱伝導率, 大きな熱膨張係数を有することから, Ni基合金などへの熱遮蔽コーティング(TBC)として用いられている。本研究では, MOCVD法によりハステロイ-XR合金上に種々の組成のYSZ膜を高速(100μm h-1)で合成した。YSZ膜の耐熱衝撃性に及ぼすイットリア含有量の影響を1273∼1373Kの空気中において調べた。正方晶である4mol%Y2O3-ZrO2膜は, 1373K, 1000サイクル後でも剥離が認められず, 優れた耐熱衝撃性を示した.
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©  日本セラミックス協会 2002
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