窒化ケイ素基材料へのナノサイズTiN被覆と放電プラズマ焼結法による高導電性セラミックスの作製

抄録

1.0vol. %のH₂Oを含んだβ-Sialon(z=2)懸濁液にTi(O-i-C₃H₇)₄を混合した後、40℃で加水分解し、β-Sialon表面にTiO₂を析出させ、NH₃ガス中で窒化させることにより、10∼20nmのTiNで被覆されたβ-Sialon粒子を作製した。放電プラズマ焼結法により得られた25vol. % TiN/β-Sialon複合粒子を1500℃、保持時間0分で焼結したところ、∼10^-4Ωcmの電気抵抗率を示した。焼結体表面のSEM観察結果より、0.1∼0.5μm幅のTiNネットワークがマトリクス中に形成されていることが確認できた。このため、得られた焼結体は、低抵抗率を示したと考えられる。