高密度化シリカガラスへのレーザー照射による微小光学素子の作製に関する研究

抄録

シリカガラスを高温で圧縮し高密度化させた。高密度化シリカガラス表面にCO_2レーザーを照射した。 照射部分に、広い隆起の上に鋭い隆起が形成された。透過特性や波長分散などの光学的性質が基板と異ならないマイクロレンズを作製できる。ある照射エネルギーまでは、照射エネルギーの増加とともに鋭い隆起が高くなった。これに対して、広い隆起の高さはほとんど変化しなかった。その照射エネルギーを超えると広い隆起と鋭い隆起両方の高さは減少した。