レーザー MOCVD の成膜時における発光プロセス

抄録

化学気相蒸着法(CVD法)により、YSZ薄膜を作製した。成膜にあたり、基板に加熱を行い、レーザーにより励起を行った。この際、レーザー励起を行った反応場から、発光が見られ、成膜速度は劇的に増大した。発光をプローブにより観測を行うと、チャージの確認が行われたが、一般のプラズマとは異なり、電子電流が正イオン電流と同じ桁であった。また、発光測定では、特定原子等の発光は見られず、連続スペクトルであった。このプラズマに似た反応場が成膜における反応性を増加させたと考えられた。