絶縁体被覆酸化チタン積層薄膜表面における光触媒活性評価

抄録

真空蒸着法などの物理蒸着法で作成される酸化チタン薄膜は、酸化ケイ素や酸化タンタル薄膜などと積層することにより、反射防止や光線カットなどの機能を有する光学薄膜として用いられている。これら積層薄膜において、酸化チタン薄膜上に被覆された絶縁膜表面における光触媒活性を、セルフクリーニング活性ならびにスピントラップＥＳＲ法によるラジカル種分析により評価した。その結果、ナノメータースケールで完全被覆された、これら絶縁膜上においてもセルフクリーニング活性が確認され、ヒドロキシラジカルが検出された。また、一部の積層薄膜では、酸化チタン単独薄膜より高濃度のヒドロキシラジカルが検出された。